ICC訊  近日，ASML發布了其第三季度的銷售和財務數據，顯示2025年預期銷售額將大幅下降，其中包括對先進半導體生產至關重要的高端EUV設備以及幫助中國芯片制造商保持在半導體競賽中的ArF浸沒式光刻機的預期。從Yole Group的角度來看，這種下滑可以由幾個關鍵因素來解釋。

  在過去四年里，中國的光刻設備市場異常強勁，從占ASML 2020年銷售額的39%增長到2024年的約50%。然而，預計到2025年，它將回落到更典型的水平，大約占ASML年度銷售額的30%，這與歷史趨勢相符。這種轉變是由于中國半導體企業在吸收生產設備方面達到了極限。在實現生產能力方面，比如達到正確的工藝、雇傭熟練工人以及確保良好的產量，還有為他們的產品找到客戶，這些進程都沒有跟上設備采購的速度。這還不包括美國貿易限制可能帶來的潛在影響，這些限制可能會進一步限制設備采購。

  與此同時，英特爾和三星正試圖在開發先進制程節點方面趕上臺積電。不過，他們的進展比預期要慢，推遲了他們在尖端設備上的投資。兩家公司都在等待建立可行的生產工藝之后，才會承諾進一步購買設備。

  Yole Group 半導體設備首席分析師John West表示：“總之，ASML只是回到了一個更加正常的增長軌道上。盡管2025年和2026年的增長前景仍然樂觀，但預計將趨于溫和而非爆發性增長。”

  確實，關于中國消費市場和面臨美歐挑戰的汽車行業的未來強勢，一些問題正在浮現。此外，在經歷了多個領域的異常增長后，半導體需求正在回歸到更典型的水平。“生成式AI”在過去18個月里吸引了大量的關注和投資，特別是在先進制程節點的制造上。然而，其他潛在的市場動態也開始重新浮出水面。

  關于作者

  John West是Yole Group的半導體設備首席分析師。他擁有超過20年的行業經驗，并在各種戰略和咨詢項目中取得了成功記錄。本文是在Yole Group的高級技術與市場分析師Taguhi Yeghoyan的合作下撰寫的。