ICC訊 您是否正在尋找提升光電子芯片設計效率的解決方案？您想了解最新的薄膜鈮酸鋰技術進展嗎？南智光電與逍遙科技誠摯邀請您參加這場不容錯過的線上技術盛宴！

  南智光電薄膜鈮酸鋰PDK1.0器件性能介紹

（圖片來源：南智光電官網）

  PIC Studio套件中基于南智光電PDK進行設計的示例演示

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  南智光電TFLN流片說明

  1.南智光電提供多種流片服務介紹

  南智光電支持多項目晶圓（MPW）模式、全掩膜（Full Mask)模式、EBL工藝模式。客戶可以根據自己的具體需求、預算以及項目階段選擇合適的流片模式。

  南智光電提供的這些服務選項，為客戶提供了靈活多樣的選擇，有助于推動科技創新和產業升級。同時，南智光電的專業團隊和先進設備也能保證流片過程的高質量和高效率，滿足客戶的多樣化需求。

（圖片來源：南智光電官網）

  2.南智光電 MPW流片班次I版圖提交截止日期

  3.南智光電PDK 申請

  PDK申請鏈接：https://latitudeda.com/solution/pdk/pdkSupport

  報名須知

  PIC Studio

  PIC Studio解決方案包含以下核心組件:

  PhotoCAD: 高效的版圖設計工具，支持組件布局、光程匹配、自動繞線等功能。

  pSim: 強大的原理圖與鏈路仿真工具。

  pSim Plus: 系統級仿真工具，支持光電融合仿真，包括非線性光纖、DSP、TDECQ分析、與Matlab聯合仿真等高級功能。在pSim Plus階段，設計師可以進行系統級異質集成設計和仿真，充分利用不同工藝平臺的優勢。pSim Plus還支持調制器建模以及帶寬建模，其中電極模型可基于物理模型、量測數據或RLC等效電路，無需調用額外的spice仿真器。

  Advanced SDL: 實現原理圖驅動版圖生成(SDL)和版圖生成原理圖(LDS)的雙向轉換。

  pMaxwell: 電磁仿真工具，支持RCWA和FDTD等多種算法。

  南智光電

  南智光電成立于2018年4月，由南京江北新區、江蘇產研院與南京大學及祝世寧院士團隊共建，系江蘇省光電技術創新中心建設單位。南智光電主要開展光學微納結構器件制造、異質集成光電芯片、光電子封裝測試和光電集成設計等方向的技術研發、產業孵化和賦能投資。南智光電擁有4000平米潔凈產線，價值數億元微納加工、檢測設備，致力于建成“薄膜鈮酸鋰+X”(X代表硅、化合物半導體、低維材料等)異質集成共性技術平臺，為光電企業、高校院所提供光電芯片及器件研制、開發和制備服務。